Yarımkeçiricilərin istehsalında geniş istifadə olunan qarışıq qazlar

Epitaksial (böyümə)Qarışıq Gas

Yarımkeçirici sənayedə, diqqətlə seçilmiş substratda kimyəvi buxar çökdürməklə bir və ya bir neçə material təbəqəsini yetişdirmək üçün istifadə olunan qaza epitaksial qaz deyilir.

Ümumi istifadə edilən silisium epitaksial qazlara diklorosilan, silisium tetraklorid vəsilan. Əsasən epitaksial silisium çöküntüsü, silisium oksidi filminin çökməsi, silikon nitrid plyonkasının çökməsi, günəş hüceyrələri və digər fotoreseptorlar üçün amorf silikon filmin çökməsi və s.

Kimyəvi Buxar Çöküntüsü (CVD) Qarışıq Qaz

CVD, uçucu birləşmələrdən istifadə edərək qaz fazasının kimyəvi reaksiyaları ilə müəyyən elementlərin və birləşmələrin çökdürülməsi üsuludur, yəni qaz fazasının kimyəvi reaksiyalarından istifadə edərək film əmələ gətirmə üsuludur. Yaranan filmin növündən asılı olaraq, istifadə olunan kimyəvi buxar çökmə (CVD) qazı da fərqlidir.

DopinqQarışıq Qaz

Yarımkeçirici cihazların və inteqral sxemlərin istehsalında materiallara tələb olunan keçiricilik növü və rezistorlar, PN qovşaqları, basdırılmış laylar və s. istehsalı üçün müəyyən müqavimət vermək üçün yarımkeçirici materialların tərkibinə müəyyən çirklər əlavə edilir. Dopinq prosesində istifadə olunan qaza dopinq qazı deyilir.

Əsasən arsin, fosfin, fosfor trifluorid, fosfor pentaflorid, arsen trifluorid, arsen pentaflorid,bor triflorid, diboran və s.

Adətən, dopinq mənbəyi mənbə şkafında daşıyıcı qazla (arqon və azot kimi) qarışdırılır. Qarışdırıldıqdan sonra qaz axını davamlı olaraq diffuziya sobasına vurulur və vaflini əhatə edir, vaflinin səthinə qatqı maddələri çökdürür və sonra silikonla reaksiyaya girərək silikona miqrasiya edən aşqarlanmış metallar əmələ gətirir.

OymaQaz Qarışığı

Aşınma, substratın səthində lazımi təsvir nümunəsini əldə etmək üçün fotorezist maskalanma ilə ərazini qoruyarkən, emal səthini (məsələn, metal plyonka, silikon oksid plyonka və s.) fotorezist maskalanmadan substrat üzərində aşındırmaqdır.

Aşınma üsullarına yaş kimyəvi aşındırma və quru kimyəvi aşındırma daxildir. Quru kimyəvi aşındırmada istifadə olunan qaza aşındırma qazı deyilir.

Aşındırma qazı adətən flüorid qazı (halogen) kimikarbon tetraflorid, azot triflorid, triflorometan, heksaftoretan, perfluoropropan və s.


Göndərmə vaxtı: 22 noyabr 2024-cü il